復(fù)合材料在對(duì)于膠帶上面的要求很高，一個(gè)根本的要點(diǎn)也就在于它的不確定性，有些膠帶在使用到它的身上時(shí)，或者是起到不能粘連，也或者是起到密封性不強(qiáng)的不足，如果是不能粘連的，則不能使用，而密封性不足的，不能達(dá)到使用的目的，因?yàn)橹赃x擇使用膠帶，也正是因?yàn)樗拿芊庑浴?/p>

而且在很多工作的要求之下，也必須要讓它達(dá)到很強(qiáng)的密封性，而且我們也都知道，在復(fù)合材料施工的過(guò)程中，還有很多不同的環(huán)境，有些環(huán)境自然普通的膠帶也不能適應(yīng)，比如高溫、再比如水等等，而在這樣的情況下，這種聚酰亞胺薄膜也都能達(dá)到很了的適應(yīng)，因此，在復(fù)合材料需要使用膠帶的時(shí)候，它也正是最好的選擇。

涂膠聚酰亞胺薄膜在微電子器件、電路技術(shù)方面，隨著高集成度、超高速、超高頻 集成電路及器件的開發(fā)，集成電路與器件的特征尺寸越來(lái)越精細(xì)， 加工尺寸已進(jìn)人深亞微米、百納米甚至納米級(jí)。但要達(dá)到這個(gè)目 標(biāo)，必須對(duì)半導(dǎo)體與集成電路行業(yè)用的化學(xué)材料，如光致抗蝕劑 (光刻膠)、高純?cè)噭⑻胤N氣體、封裝材料等提出更高的要求，使其 保持同步或超前發(fā)展。

光致抗蝕劑(光刻膠)的開發(fā)，從g線((436 nm)向i線(365 nm)、準(zhǔn)分子激光束( KrF, 248 nm和ArF, 193 nm)以及電子束、x射 線、離子束等一系列新型輻射敏感材料發(fā)展，重點(diǎn)是i線與電子束 化學(xué)放大抗蝕劑。

在高純?cè)噭┑陌l(fā)展方向上，重點(diǎn)進(jìn)行適用于0. 2^-0.6 ,.cm工 藝技術(shù)的超凈高純?cè)噭┑难芯块_發(fā)，同時(shí)開展0. 09-0. 2 5m工 藝技術(shù)加工所需超凈高純?cè)噭┑那捌谘芯俊?/p>